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產品介紹
無損成像將時間分辨研究帶入了納米長度尺度
獨特的地形表面成像能力（生物，半導體，量子）
一根或多根帶有根據您的要求配置的終端站的光束線
自組裝材料中納米級有序衍射
用于評估機械和薄膜特性的結構泵探頭，以了解彈性響應，熱傳遞和聲子模式
磁性系統的高分辨率，革命性的測量對不同的磁性層高度敏感
KMLabs QM 量子顯微鏡的光子成像解決方案是一個完全集成的商業化平臺，可實現EUV范圍內的超快速光譜和納米級的高對比度，近地表到地下成像。它可以對成分和結構進行基于實驗室的2D高對比度成像，研究圖案化薄膜的機械性能，深入了解材料性能，以及自旋電子，ALD，2D，低密度輕質，能源，空間和光伏材料的功能表征。
通過將飛秒激光器的時間敏感性與EUV顯微鏡和衍射的空間分辨率相結合，QM使得一系列技術可針對研究和工業中的重要挑戰進行調整。例如，對于電池，鋰邊緣附近的EUV吸收提供了微觀和光譜上豐富的區域，以了解鋰鍵合。對于半導體，QM提供了獨特的對鍵合敏感的掩埋和表面納米形貌的關鍵細節。QM 量子顯微鏡完全可配置，包括激光源（EUV和/或VUV），放大器，根據用戶實驗量身定制的光束線以及可有效覆蓋納米/量子材料的顯微鏡/光譜學領域的成像或其他分析工作站。
產品參數
集成的高性能超快EUV激光源
高分辨率干涉測量表面和亞表面成像
x/y空間分辨率小于20 nm
具有可配置終端站的多用途束線
泵浦探頭（XUV泵浦/ IR探頭）設計
可擴展至VUV（60-150 nm或8.3至20.7 eV）
津公網安備12010102000950號